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業(yè)務(wù)范圍

測(cè)試項(xiàng)目 測(cè)試設(shè)備 設(shè)備型號(hào) 精度范圍
晶體結(jié)構(gòu)

高分辨XRD

 PANalytical X'pert3 MRD
搖擺曲線、ω/2θ掃描，三軸晶分辨率12”
電學(xué)質(zhì)量

Hall測(cè)試系統(tǒng)

 Nanometrics HL5500PC
支持低溫77K測(cè)試
光學(xué)質(zhì)量

光致發(fā)光譜

 Nanometrics RPMBlue
532nm激光器, 可測(cè)波長(zhǎng)400-2040nm
摻雜濃度

電化學(xué)ECV

 Nanometrics ECVpro
載流子濃度1E13~1E20cm-3，腐蝕深度 范圍50nm~50μm
表面方阻

非接觸薄膜電阻測(cè)試儀

 Lehighton LEI1510EC
電阻率0.01-200Ω-cm
表面高阻

非接觸薄膜高阻測(cè)試儀

 SemiMap Corema-ER
電阻率1E5 ~1E12 ohm-cm
表面缺陷

表面缺陷分析

 KLA Candela 8420
最小顆粒80nm直徑
光學(xué)信息

分光光度計(jì)

 PerkinElmer Lambda950
分光波長(zhǎng)200-3300nm
材料厚度

臺(tái)階儀

 KLA P-7
最高分辨率0.5?
表面形貌

偏光顯微鏡

 Leica DM3 XL
光學(xué)放大1000倍
表面形貌

掃描電子顯微鏡

 FEI Apreo
可噴金，最小精度1nm